型號：AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）

一款市面上體積最小的原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款適用于科研的經濟型原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款經濟實惠的原子層沉積系統(tǒng)ALD

可做粉末的原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款可以放入手套箱里的原子層沉積系統(tǒng)ALD

特別適合在高真空和水氧量極低環(huán)境下使用

技術參數：

·尺寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8cm 

·粉末涂層可選(容量可達~10cm^3) 

·可放置2英寸x2英寸×3英寸或兩個2英寸圓片的樣品(可定制的卡盤和我們的粉末涂層選項)

·2個前驅體端口，4個可選端口 (帶有高達150°℃的熱追蹤線，HT套件至180°C) 

·可升級為空心陰極等離子體(可選)通風前驅體外殼 

·耐高溫的快速脈沖ALD閥門，配備超快MFC進行集成惰性氣體吹掃-標配

·全不銹鋼腔室，溫度范圍可達300°C 

·靜態(tài)反應模式下可實現(xiàn)高覆蓋 

·帶集成PLC控制的5英寸顯示屏

·包括終身軟件升級 

·1年保修

可選項：真空泵，4個端口，臭氧發(fā)生器(AT-03), 瓶加熱器，QCM,遠程PC控制， ALD前驅體，手套箱，HT套件(前驅體至 180℃),起泡器，粉末噴涂機，HC等離子體。

典型用戶:

該ALD設備客戶遍布世界各地，其中包含ALD業(yè)內的國際專家，他們都是ALD會議委員會的著名成員

Sean Barry, Dennis Haussman, Mikko Ritala，Anjana Devi，Stacey Brent等

其中Mikko Ritala 每年發(fā)表很多ALD的文章，他來自于ALD的發(fā)源地，赫爾辛基大學

詳情可以聯(lián)系我們咨詢。

我們的 ALD 咨詢服務

薄膜沉積服務

我們能夠將各種各樣的材料沉積在您的樣本上。

工藝問題解除服務

我們能夠為薄膜和納米技術工藝、工藝整合以及器件性能提供廣泛的技術支持。當有需求時，我們會根據員工的豐富經驗、深入的文獻研究、理論建模以及直接實驗來提供報告和建議。

雖然我們的專長在于原子層沉積技術(ALD)，但我們也參與了多個項目，這些項目通常屬于半導體加工和納米技術研究與開發(fā)的范疇。

我們曾為初創(chuàng)企業(yè)開發(fā)了新型設備，并為大學實驗室以及一些大型企業(yè)開發(fā)了新的材料。

市場分析與技術評估

我們可以為相關領域的企業(yè)和學術界提供針對某一特定原子層沉積技術在市場中的應用趨勢的深入分析，同時也能對現(xiàn)有及新興的原子層沉積相關科學的研究與開發(fā)現(xiàn)狀進行評估。