離子濺射儀的靶材選擇與涂層質(zhì)量關(guān)聯(lián)
2025-12-13 離子濺射儀通過高能離子轟擊靶材表面,實現(xiàn)原子級薄膜沉積。靶材的選擇直接決定涂層的物理化學(xué)性能,需綜合考慮材料特性、工藝參數(shù)及應(yīng)用需求。靶材類型與性能匹配金屬靶材(如Au、Al、Cr):適用于導(dǎo)電性要求高的場景,如電子封裝和光學(xué)反射膜。合金靶材(如NiCr、TiAl):通過成分調(diào)控可優(yōu)化涂層硬度(如TiAlN涂層硬度25GPa)或抗氧化性。陶瓷靶材(如SiO?、ZrO?):用于絕緣層或耐磨涂層,但需注意其脆性可能導(dǎo)致濺射效率下降。靶材參數(shù)對涂層質(zhì)量的影響純度要求:高純度靶材(≥...關(guān)于熱原子層沉積的相關(guān)介紹一起了解下
2025-11-26 TALD通過交替引入兩種或多種前驅(qū)體氣體,在基底表面發(fā)生自限性化學(xué)反應(yīng),逐層沉積薄膜。每個完整的沉積循環(huán)包含四個步驟:通入第一種前驅(qū)體氣體:使其與基底表面發(fā)生化學(xué)吸附,形成單層吸附。惰性氣體吹掃:去除多余的前驅(qū)體和副產(chǎn)物,避免氣相反應(yīng)。通入第二種前驅(qū)體氣體:與已吸附的第一種前驅(qū)體反應(yīng),生成單原子層薄膜。再次惰性氣體吹掃:去除未反應(yīng)的前驅(qū)體和副產(chǎn)物,準備下一個循環(huán)。熱原子層沉積通過交替引入兩種前驅(qū)體氣體(如三甲基鋁和水蒸氣),在基底表面發(fā)生化學(xué)吸附和表面反應(yīng),形成單原子層。每次...高壓極化儀安全防護機制與絕緣油冷卻系統(tǒng)的可靠性驗證
2025-11-22 高壓極化儀用于對壓電陶瓷、鐵電薄膜等材料施加數(shù)千至數(shù)萬伏直流電場以實現(xiàn)極化,其高電壓操作帶來嚴峻的安全挑戰(zhàn)。因此,完善的安全防護機制與高效的冷卻系統(tǒng)是設(shè)備可靠運行的前提。安全防護機制包括:多重互鎖:艙門開啟自動切斷高壓輸出;接地保護:樣品臺與外殼雙重接地,防止靜電積累;過流/過壓保護:毫秒級響應(yīng)切斷異常電流;電弧檢測:通過高頻噪聲識別早期放電,提前預(yù)警。絕緣油冷卻系統(tǒng)則承擔(dān)兩大功能:電氣絕緣:變壓器油(如礦物油或硅油)耐壓強度30kV/mm,隔離高壓電極;散熱冷卻:極化過程產(chǎn)...顯微成像橢偏儀結(jié)合了橢偏技術(shù)與光學(xué)顯微成像技術(shù)
2025-10-31 顯微成像橢偏儀是一種結(jié)合光學(xué)顯微成像與橢偏技術(shù)的儀器,主要用于測量薄膜厚度、折射率、吸收系數(shù)等參數(shù),并獲取樣品表面的三維形貌分布。顯微成像橢偏儀基于橢圓偏振原理,通過分析入射偏振光經(jīng)樣品反射或透射后的偏振態(tài)變化,結(jié)合光學(xué)顯微成像技術(shù),獲取樣品表面的三維形貌分布及薄膜厚度、折射率等光學(xué)參數(shù)。過程包括:光源與偏振控制:光源發(fā)出的光經(jīng)起偏器變?yōu)榫€偏振光,再通過補償器調(diào)整為特定偏振狀態(tài)(如橢圓偏振光)。樣品相互作用:偏振光入射到樣品表面,與樣品發(fā)生反射或透射,偏振狀態(tài)因樣品特性(如薄...核心技術(shù)揭秘:離子濺射儀的工作原理與獨特設(shè)計特點剖析
2025-10-18 離子濺射儀是制備高純度、高結(jié)合力金屬/化合物薄膜的核心設(shè)備,其通過離子轟擊靶材實現(xiàn)原子級沉積,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、光學(xué)器件及納米材料領(lǐng)域。理解其工作原理與設(shè)計特點,是優(yōu)化薄膜性能的關(guān)鍵。一、工作原理:離子濺射的核心是“動量轉(zhuǎn)移”。設(shè)備通過氣體放電(通常為氬氣,純度99.999%)產(chǎn)生等離子體(含大量Ar?離子),在高壓電場(通常-300V至-1000V)作用下,Ar?離子加速轟擊靶材(如金屬鈦、氧化物陶瓷)表面。離子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞,將動能傳遞給靶材原子(單個Ar?離...關(guān)注公眾號

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